Silisiumkarbidsubstrat|SiC-skiver

Silisiumkarbidsubstrat|SiC-wafere Utvalgt bilde

Kort beskrivelse:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. er en ledende leverandør som spesialiserer seg på wafer og avanserte halvledere forbruksvarer.Vi er dedikert til å tilby høykvalitets, pålitelige og innovative produkter til halvlederproduksjon, solcelleindustrien og andre relaterte felt.

Vår produktlinje inkluderer SiC/TaC-belagte grafittprodukter og keramiske produkter, som omfatter forskjellige materialer som silisiumkarbid, silisiumnitrid og aluminiumoksid og etc.

For tiden er vi den eneste produsenten som gir renhet på 99,9999% SiC-belegg og 99,9% omkrystallisert silisiumkarbid.Den maksimale SiC-belegglengden vi kan gjøre 2640 mm.

Send e-post til oss

Produkt detalj

Produktetiketter

Silisiumkarbid (SiC) enkeltkrystallmateriale har en stor båndgapbredde (~Si 3 ganger), høy termisk ledningsevne (~Si 3,3 ganger eller GaAs 10 ganger), høy migrasjonshastighet for elektronmetning (~Si 2,5 ganger), høy elektrisk nedbrytning felt (~Si 10 ganger eller GaAs 5 ganger) og andre fremragende egenskaper.

SiC-enheter har uerstattelige fordeler innen høye temperaturer, høyt trykk, høyfrekvente elektroniske enheter med høy effekt og ekstreme miljøapplikasjoner som romfart, militær, kjernekraft, etc., gjør opp for defektene til tradisjonelle halvledermaterialeenheter i praksis applikasjoner, og er gradvis i ferd med å bli hovedstrømmen av krafthalvledere.

Spesifikasjoner for 4H-SiC silisiumkarbidsubstrat

Vare项目	Spesifikasjoner参数
Polytype 晶型	4H-SiC	6H-SiC
Diameter 晶圆直径	2 tommer \|3 tommer \|4 tommer \|6 tommer	2 tommer \|3 tommer \|4 tommer \|6 tommer
Tykkelse 厚度	330 μm ~ 350 μm	330 μm ~ 350 μm
Konduktivitet 导电类型	N – type / Halvisolerende N型导电片/ 半绝缘片	N – type / Halvisolerende N型导电片/ 半绝缘片
Dopant 掺杂剂	N2 (nitrogen)V (vanadium)	N2 (nitrogen) V (vanadium)
Orientering 晶向	På akse <0001> Av akse <0001> av 4°	På akse <0001> Av akse <0001> av 4°
Resistivitet 电阻率	0,015 ~ 0,03 ohm-cm (4H-N)	0,02 ~ 0,1 ohm-cm (6H-N)
Mikrorørdensitet (MPD) 微管密度	≤10/cm2 ~ ≤1/cm2	≤10/cm2 ~ ≤1/cm2
TTV 总厚度变化	≤ 15 μm	≤ 15 μm
Bue/varp 翘曲度	≤25 μm	≤25 μm
Flate 表面处理	DSP/SSP	DSP/SSP
Karakter 产品等级	Karakter for produksjon / forskning	Karakter for produksjon / forskning
Krystallstablingssekvens 堆积方式	ABCB	ABCABC
Gitterparameter 晶格参数	a=3,076A, c=10,053A	a=3,073A, c=15,117A
Eks/eV(Band-gap) 禁带宽度	3,27 eV	3,02 eV
ε(dielektrisk konstant) 介电常数	9.6	9,66
Brytningsindeks 折射率	n0 = 2,719 ne = 2,777	n0 = 2,707, ne = 2,755

Spesifikasjoner for 6H-SiC silisiumkarbidsubstrat

Vare项目	Spesifikasjoner参数
Polytype 晶型	6H-SiC
Diameter 晶圆直径	4 tommer \|6 tommer
Tykkelse 厚度	350μm ~ 450μm
Konduktivitet 导电类型	N – type / Halvisolerende N型导电片/ 半绝缘片
Dopant 掺杂剂	N2(nitrogen) V (vanadium)
Orientering 晶向	<0001> av 4°± 0,5°
Resistivitet 电阻率	0,02 ~ 0,1 ohm-cm (6H-N Type)
Mikrorørdensitet (MPD) 微管密度	≤ 10/cm2
TTV 总厚度变化	≤ 15 μm
Bue/varp 翘曲度	≤25 μm
Flate 表面处理	Si Face: CMP, Epi-Ready C Ansikt: Optisk polsk
Karakter 产品等级	Forskningskarakter