Vi introduserer vår toppmoderne silisiumkarbid horisontale båtplate, omhyggelig designet for halvlederindustriens waferbehandlingsapplikasjoner.Laget av det fineste silisiumkarbid, skiller vår horisontale båtplate seg ut for sine overlegne termiske egenskaper, kjemisk motstandsdyktighet og mekaniske styrke.Denne båtplaten er ideell for prosesser ved høye temperaturer, og er konstruert for å levere eksepsjonell ytelse, som sikrer presisjon og effektivitet ved enhver bruk.
Eksepsjonell holdbarhet:Laget av høyrent silisiumkarbid, vår båtplateer konstruert for å tåle ekstreme temperaturer opp til1600°C, som gir enestående holdbarhet og levetid.
Ensartet varmefordeling:Den termiske ledningsevnen til silisiumkarbid sikrer jevn varmefordeling over platen, avgjørende for å opprettholde prosesskonsistens og oppnå høykvalitets waferproduksjon.
Kjemisk motstand:Båtplaten vår er motstandsdyktig mot etsende kjemikalier og tøffe miljøer, og opprettholder integritet og ytelse, selv i de mest krevende applikasjonene for halvlederbehandling.
Høy mekanisk styrke:Den robuste konstruksjonen til vårbåtplategaranterer utmerket mekanisk styrke og slitestyrke, reduserer risikoen for skade og behovet for hyppige utskiftninger.
Applikasjoner:
VårSilisiumkarbid horisontal båtplateer perfekt for et bredt spekter av høytemperaturprosesser i halvlederproduksjon, inkludert men ikke begrenset til diffusjon, oksidasjon, ioneimplantasjon og CVD-prosesser.Designet og materialene sikrer at den kan støtte de nøyaktige kravene til waferbehandling, noe som gjør den til en viktig komponent for halvlederproduksjonslinjer.
Arbeidsplass
Lager
Vårt verksted
