Semicera leverer spesialiserte tantalkarbid (TaC) belegg for ulike komponenter og bærere.Semicera ledende belegningsprosess gjør det mulig for tantalkarbid (TaC)-belegg å oppnå høy renhet, høy temperaturstabilitet og høy kjemisk toleranse, noe som forbedrer produktkvaliteten til SIC/GAN-krystaller og EPI-lag (Grafittbelagt TaC-susceptor), og forlenge levetiden til nøkkelreaktorkomponenter. Bruken av tantalkarbid-TAC-belegg er å løse kantproblemet og forbedre kvaliteten på krystallvekst, og Semicera har gjennombrudd løst tantalkarbidbeleggteknologien (CVD), og nådde det internasjonale avanserte nivået.
Med bruken av 8-tommers silisiumkarbidskiver (SiC) har kravene til ulike halvlederprosesser blitt stadig strengere, spesielt for epitaksiprosesser der temperaturen kan overstige 2000 grader Celsius. Tradisjonelle susceptormaterialer, som grafitt belagt med silisiumkarbid, har en tendens til å sublimere ved disse høye temperaturene, noe som forstyrrer epitaksiprosessen. Imidlertid løser CVD tantalkarbid (TaC) dette problemet effektivt, tåler temperaturer opp til 2300 grader Celsius og gir lengre levetid. Kontakt Semicera's Tantalkarbid TaC CVD-belegg Wafer Susceptorfor å utforske mer om våre avanserte løsninger.
Etter år med utvikling har Semicera erobret teknologien tilCVD TaCmed felles innsats fra FoU-avdelingen. Defekter er lett å oppstå i vekstprosessen til SiC-skiver, men etter brukTaC, forskjellen er betydelig. Nedenfor er en sammenligning av wafere med og uten TaC, samt Simiceras deler for enkeltkrystallvekst.
med og uten TaC
Etter bruk av TaC (høyre)
Dessuten SemicerasTaC-belagte produkterviser lengre levetid og større motstand mot høye temperaturer sammenlignet medSiC-belegg.Laboratoriemålinger har vist at vårTaC-beleggkan konsekvent fungere ved temperaturer opp til 2300 grader Celsius i lengre perioder. Nedenfor er noen eksempler på våre eksempler:
