PFA-kassett

Kort beskrivelse:

PFA-kassett– Opplev uovertruffen kjemisk motstand og holdbarhet med Semiceras PFA-kassett, den ideelle løsningen for sikker og effektiv waferhåndtering i halvlederproduksjon.


Produktdetaljer

Produktetiketter

Semicerahar gleden av å tilbyPFA-kassett, et førsteklasses valg for waferhåndtering i miljøer der kjemisk motstand og holdbarhet er avgjørende. Laget av høyrent Perfluoroalkoxy (PFA) materiale, er denne kassetten designet for å tåle de mest krevende forholdene i halvlederproduksjon, og sikrer sikkerheten og integriteten til dine wafere.

Uovertruffen kjemisk motstandDePFA-kassetter konstruert for å gi overlegen motstand mot et bredt spekter av kjemikalier, noe som gjør det til det perfekte valget for prosesser som involverer aggressive syrer, løsemidler og andre sterke kjemikalier. Denne robuste kjemiske motstanden sikrer at kassetten forblir intakt og funksjonell selv i de mest korrosive miljøene, og forlenger dermed levetiden og reduserer behovet for hyppige utskiftninger.

Konstruksjon med høy renhetSemicera sinPFA-kassetter produsert av ultrarent PFA-materiale, som er avgjørende for å forhindre forurensning under waferbehandling. Denne høyrenhetskonstruksjonen minimerer risikoen for partikkelgenerering og kjemisk utlekking, og sikrer at wafere dine er beskyttet mot urenheter som kan kompromittere kvaliteten.

Forbedret holdbarhet og ytelseDesignet for holdbarhet, denPFA-kassettopprettholder sin strukturelle integritet under ekstreme temperaturer og strenge prosessforhold. Enten den utsettes for høye temperaturer eller gjentatt håndtering, beholder denne kassetten sin form og ytelse, og tilbyr langsiktig pålitelighet i krevende produksjonsmiljøer.

Presisjonsteknikk for sikker håndteringDeSemicera PFA-kassetthar presis konstruksjon som sikrer sikker og stabil waferhåndtering. Hvert spor er nøye designet for å holde wafere sikkert på plass, og forhindre enhver bevegelse eller forskyvning som kan føre til skade. Denne presisjonsteknikken støtter konsistent og nøyaktig waferplassering, noe som bidrar til total prosesseffektivitet.

Allsidig bruk på tvers av prosesserTakket være sine overlegne materialegenskaper,PFA-kassetter allsidig nok til å brukes på tvers av ulike stadier av halvlederproduksjon. Den er spesielt godt egnet for våtetsing, kjemisk dampavsetning (CVD) og andre prosesser som involverer tøffe kjemiske miljøer. Dens tilpasningsevne gjør den til et viktig verktøy for å opprettholde prosessintegritet og waferkvalitet.

Engasjement for kvalitet og innovasjonHos Semicera er vi forpliktet til å levere produkter som oppfyller de høyeste industristandardene. DePFA-kassetteksemplifiserer denne forpliktelsen, og tilbyr en pålitelig løsning som integreres sømløst i produksjonsprosessene dine. Hver kassett gjennomgår streng kvalitetskontroll for å sikre at den oppfyller våre strenge ytelseskriterier, og leverer den fortreffeligheten du forventer av Semicera.

Varer

Produksjon

Forske

Dummy

Krystallparametere

Polytype

4H

Overflateorienteringsfeil

<11-20 >4±0,15°

Elektriske parametere

Dopant

n-type nitrogen

Resistivitet

0,015-0,025 ohm·cm

Mekaniske parametere

Diameter

150,0±0,2 mm

Tykkelse

350±25 μm

Primær flat orientering

[1-100]±5°

Primær flat lengde

47,5±1,5 mm

Sekundærleilighet

Ingen

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Bue

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Forside (Si-face) ruhet (AFM)

Ra≤0,2nm (5μm*5μm)

Struktur

Mikrorørtetthet

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 e/cm2

Metallurenheter

≤5E10atomer/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Frontkvalitet

Front

Si

Overflatefinish

Si-face CMP

Partikler

≤60ea/wafer (størrelse≥0,3μm)

NA

Riper

≤5ea/mm. Kumulativ lengde ≤Diameter

Kumulativ lengde≤2*Diameter

NA

Appelsinskall/groper/flekker/striper/ sprekker/forurensning

Ingen

NA

Kantspon/innrykk/brudd/hex-plater

Ingen

Polytype områder

Ingen

Akkumulert areal≤20 %

Akkumulert areal≤30 %

Lasermerking foran

Ingen

Ryggkvalitet

Avslutning bak

C-ansikt CMP

Riper

≤5ea/mm, Kumulativ lengde≤2*Diameter

NA

Ryggdefekter (kantskår/innrykk)

Ingen

Ruhet i ryggen

Ra≤0,2nm (5μm*5μm)

Lasermerking bak

1 mm (fra øvre kant)

Kant

Kant

Chamfer

Emballasje

Emballasje

Epi-klar med vakuumemballasje

Multi-wafer kassettemballasje

*Merknader: "NA" betyr ingen forespørsel. Elementer som ikke er nevnt kan referere til SEMI-STD.

tech_1_2_size
SiC-skiver

  • Tidligere:
  • Neste: