Introduksjon av waferbærer
PRODUKTKATAGORI
▶Wafer Carrier System for PECVD & TALOX Process
• PECVD & TALOX grafittbåt (M4~M12)
• Vertikal SM-båt (M4, M6)
• Implantat- og dusjgrafittdel (M4~M6)
• C/C-brett og keramisk belegg
• Metall RIE-brett og keramisk belegg
• Vakuumforsegling: O-ring og SQ-ring
▶Overføringsprosess for teksturering og våtetsing
• LSC H-bærer eller kassett (M4~M12)
• LSC V-Carrier eller kassett (M4~M12)
• ASC-bærer eller kassett (M4, M6)
• W/F-bærer og oppbevaringsboks (M4~M12)
• Transporthjul (rulle)-serien
▶Solcellebærer og metallbærer
• TRC-bærer eller kassett (M4~M12)
• Magasin (med BELTE)
GRAFITTBÅT (H-type)
19P6-216CT (WF M4~M12)
GRAFITTBÅT (H-type)
21P6-240CT WF M4~M12)
GRAFITTBÅT (H-type)
23P7-308CT(W/F M4~M12)
GRAFITTBÅT (H-type)
22P/7-294TP (W/F M4~M12)
GRAFITTBÅT (H-type)
W182-22P7-294CT (W/F M12)
W182-21P6-240CT (W/F M12)
WF BÆRER OG OPPBEVARINGSBOKS (~M12)
C/C TRAY eller CARRIER( M4~M10)
C/C TRAY eller CARRIER( M4~M10)
VERTIKAL BÅT (SM) M6
LSC-H-CARRIER(~M12)
LSC-V-CARRIER(~M12)
ASC CARRIER (~M6)
TRC CARRIER(~M12)
TRC CARRIER(~M12)
GRAFITT-BÅT(M12)
Wafer Carrier System for PECVD-prosess
▶ GRAFITTBÅT (CT-designet) M10/M12 Prosess
• SPESIELL DESIGN KONSEPT
▶ GRAFITTBÅT (CT-designet) M4/M6-prosess
▶ BÅT tilbehørsdeler
▶ VERTIKAL BÅT-161,7 mm WAFER
▶ VERTICAL BOAT-166mm WAFER
▶ VERTIKAL BÅT-161,7 mm, 166 mm WAFER
Solcellebærer og TRC-bærer i metall
TYPE : Automatisering
WAFER STØRRELSE: ① 156×156MM ② 156,75×156,75MM
③161,7x161,7MM ④166x166MM
⑤ 180×180 mm ⑥ 210×210 mm
BRUK: Bære (kassett)
KAPASITET: 100 ark
Pitch: 4,76MM/5,953mm/6,35mm
DIMENSJON: Ca 559×220×220MM
Ca 712×260×260MM
FORDEL: Atmosfære
MATERIALE: FLAMME, SIDEBAR-Aluminium (anodisering)
SIDE PLATE-POM (antistatisk)
Deksel av bunnstang-EPDM/PU/VITON (ASE)