-
SiC Coating Wheel Gear: Enhancing Semiconductor Manufacturing Efficiency
I det raskt voksende feltet innen halvlederproduksjon er presisjon og holdbarhet av utstyr avgjørende for å oppnå høy ytelse og kvalitet. En av nøkkelkomponentene som sikrer dette er SiC Coating Wheel Gear, designet for å forbedre effektiviteten til prosesser...Les mer -
Hva er et kvartsbeskyttelsesrør? | Semicera
Kvartsbeskyttelsesrøret er en viktig komponent i ulike industrielle applikasjoner, kjent for sin utmerkede ytelse under ekstreme forhold. Hos Semicera produserer vi kvartsbeskyttelsesrør som er designet for høy holdbarhet og pålitelighet i tøffe miljøer. Med enestående karakter...Les mer -
Hva er CVD-belagt prosessrør? | Semicera
Et CVD-belagt prosessrør er en kritisk komponent som brukes i ulike produksjonsmiljøer med høy temperatur og høy renhet, som for eksempel halvleder- og fotovoltaisk produksjon. Hos Semicera spesialiserer vi oss på å produsere høykvalitets CVD-belagte prosessrør som tilbyr super...Les mer -
Hva er isostatisk grafitt? | Semicera
Isostatisk grafitt, også kjent som isostatisk dannet grafitt, refererer til en metode der en blanding av råmaterialer komprimeres til rektangulære eller runde blokker i et system som kalles kald isostatisk pressing (CIP). Kald isostatisk pressing er en materialbehandlingsmetode i...Les mer -
Hva er tantalkarbid? | Semicera
Tantalkarbid er et ekstremt hardt keramisk materiale kjent for sine eksepsjonelle egenskaper, spesielt i høytemperaturmiljøer. Hos Semicera er vi spesialister på å tilby tantalkarbid av topp kvalitet som gir overlegen ytelse i bransjer som krever avanserte materialer for ekstreme ...Les mer -
Hva er et kjernerør i kvartsovn? | Semicera
Et kjernerør i kvartsovn er en viktig komponent i ulike prosessmiljøer med høy temperatur, mye brukt i bransjer som halvlederproduksjon, metallurgi og kjemisk prosessering. Hos Semicera er vi spesialister på å produsere høykvalitets kvartsovns kjernerør som er kjent ...Les mer -
Tørr etsingsprosess
Tørr etsingsprosess består vanligvis av fire grunnleggende tilstander: før etsing, delvis etsing, bare etsing og overetsing. Hovedkarakteristikkene er etsehastighet, selektivitet, kritisk dimensjon, uniformitet og endepunktdeteksjon. Figur 1 Før etsing Figur 2 Delvis etsing Figur...Les mer -
SiC Paddle i halvlederproduksjon
I riket av halvlederproduksjon spiller SiC Paddle en avgjørende rolle, spesielt i den epitaksiale vekstprosessen. Som en nøkkelkomponent som brukes i MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition)-systemer, er SiC Paddles konstruert for å tåle høye temperaturer og ...Les mer -
Hva er Wafer Paddle? | Semicera
En wafer-padle er en avgjørende komponent som brukes i halvleder- og solcelleindustrien for å håndtere wafere under høytemperaturprosesser. Hos Semicera er vi stolte av våre avanserte evner til å produsere toppkvalitets wafer-padler som oppfyller de strenge kravene til...Les mer -
Halvlederprosess og utstyr (7/7) - Tynnfilmvekstprosess og utstyr
1. Introduksjon Prosessen med å feste stoffer (råmaterialer) til overflaten av substratmaterialer ved hjelp av fysiske eller kjemiske metoder kalles tynnfilmvekst. I henhold til forskjellige arbeidsprinsipper kan integrert krets tynnfilmavsetning deles inn i:-Fysisk dampavsetning ( P...Les mer -
Halvlederprosess og utstyr(6/7) - Ioneimplantasjonsprosess og utstyr
1. Introduksjon Ioneimplantasjon er en av hovedprosessene i produksjon av integrerte kretser. Det refererer til prosessen med å akselerere en ionestråle til en viss energi (vanligvis i området keV til MeV) og deretter injisere den inn i overflaten av et fast materiale for å endre den fysiske prop...Les mer -
Halvlederprosess og utstyr(5/7)- Etseprosess og utstyr
En introduksjon Etsing i produksjonsprosessen for integrerte kretser er delt inn i:-Våtetsing;-Tørretsing. I de tidlige dagene ble våtetsing mye brukt, men på grunn av dens begrensninger i linjebreddekontroll og etsingsretningsevne, bruker de fleste prosesser etter 3μm tørretsing. Våtetsing er...Les mer