SiC Paddle i halvlederproduksjon

I riket av halvlederproduksjonSiC Padlespiller en avgjørende rolle, spesielt i den epitaksiale vekstprosessen. Som en nøkkelkomponent brukt iMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) systemer,SiC-padlerer konstruert for å tåle høye temperaturer og kjemisk tøffe miljøer, noe som gjør dem uunnværlige for avansert produksjon. Hos Semicera er vi spesialister på å produsere høy ytelseSiC-padlerdesignet for beggeSi EpitaksiogSiC Epitaksi, som tilbyr eksepsjonell holdbarhet og termisk stabilitet.

Bruken av SiC Paddles er spesielt utbredt i prosesser som epitaksial vekst, hvor substratet trenger nøyaktige termiske og kjemiske forhold. Våre Semicera-produkter sikrer optimal ytelse i miljøer som krever enMOCVD Susceptor, hvor høykvalitets silisiumkarbidlag er avsatt på underlag. Dette bidrar til forbedretoblatkvalitet og høyere enhetseffektivitet i halvlederproduksjon.

Semicera sinSiC-padlerer ikke bare designet forSi Epitaksimen også skreddersydd for en rekke andre kritiske bruksområder. For eksempel er de kompatible med PSS Etching Carriers, essensielle i produksjonen av LED-wafere, ogICP Etsningsbærere, hvor presis ionekontroll er nødvendig for å forme wafere. Disse åreårene er integrert i systemer somRTP-operatører(Rapid Thermal Processing), hvor behovet for raske temperaturoverganger og høy varmeledningsevne står i høysetet.

I tillegg fungerer SiC Paddles som LED-epitaksiale susceptorer, noe som letter veksten av høyeffektive LED-wafere. Evnen til å håndtere varierende termiske og miljømessige påkjenninger gjør dem svært allsidige på tvers av forskjellige halvlederfremstillingsprosesser.

Samlet sett er Semicera forpliktet til å levere SiC-padler som oppfyller de strenge kravene til moderne halvlederproduksjon. Fra SiC Epitaxy til MOCVD-susceptorer, våre løsninger sikrer forbedret pålitelighet og ytelse, og tilfredsstiller bransjens banebrytende krav.