SEMICERA isostatisk PECVD-grafittbåt er et grafittprodukt med høy renhet og høy tetthet designet for wafer-støtte i PECVD-prosessen (plasma enhanced chemical vapor deposition). SEMICERA bruker avansert isostatisk presseteknologi for å sikre at grafittbåten har utmerket høytemperaturmotstand, korrosjonsbestandighet, dimensjonsstabilitet og god varmeledningsevne, som er et uunnværlig forbruksmateriale i halvlederproduksjonsprosessen.
SEMICERA isostatisk PECVD grafittbåt har følgende fordeler:
▪ Høy renhet: Grafittmaterialet har høy renhet og lavt innhold av urenheter for å unngå forurensning av waferoverflaten.
▪ Høy tetthet: Høy tetthet, høy mekanisk styrke, tåler høy temperatur og høyvakuummiljø.
▪ God dimensjonsstabilitet: Liten dimensjonsendring ved høy temperatur for å sikre prosessstabilitet.
▪ Utmerket termisk ledningsevne: Overfør effektivt varme for å forhindre overoppheting av wafer.
▪ Sterk korrosjonsbestandighet: Kan motstå erosjon fra ulike etsende gasser og plasma.
Ytelsesparameter | semicera | SGL R6510 | Ytelsesparameter |
Bulkdensitet (g/cm3) | 1,91 | 1,83 | 1,85 |
Bøyestyrke (MPa) | 63 | 60 | 49 |
Trykkstyrke (MPa) | 135 | 130 | 103 |
Shore Hardness (HS) | 70 | 64 | 60 |
Termisk utvidelseskoeffisient (10-6/K) | 85 | 105 | 130 |
Termisk utvidelseskoeffisient (10-6/K) | 5,85 | 4.2 | 5.0 |
Resistivitet (μΩm) | 11-13 | 13 | 10 |
Fordeler med å velge oss:
▪ Materialvalg: Det brukes grafittmaterialer med høy renhet for å sikre produktkvalitet.
▪ Prosessteknologi: Isostatisk pressing brukes for å sikre produkttetthet og jevnhet.
▪ Størrelsestilpasning: Grafittbåter i forskjellige størrelser og former kan tilpasses etter kundens behov.
▪ Overflatebehandling: En rekke overflatebehandlingsmetoder tilbys, for eksempel belegging av silisiumkarbid, bornitrid, etc., for å møte ulike prosesskrav.