Bulk CVD SiC-ring

Kort beskrivelse:

Bulk CVD SiC-ringer bruker silisiumkildegass (som silisiumhydrid) og karbonkildegass (som metan) som råmaterialer, og reagerer ved høy temperatur for å avsette store SiC-materialer på et substrat eller form. Denne prosessen gjør at SiC kan avsettes jevnt over et stort område, og danner en sterk og konsistent ringstruktur.

Send e-post til oss

Produktdetaljer

Produktetiketter

Hvorfor er silisiumkarbid etsering?

RTPCVD SiC-ringerer mye brukt i industrielle og vitenskapelige felt i høytemperatur og korrosive miljøer. Det spiller en viktig rolle i halvlederproduksjon, optoelektronikk, presisjonsmaskineri og kjemisk industri. Spesifikke applikasjoner inkluderer:

1. Halvlederproduksjon:RTP CVD SiC-ringerkan brukes til oppvarming og kjøling av halvlederutstyr, gir stabil temperaturkontroll og sikrer nøyaktigheten og konsistensen av prosessen.

2. Optoelektronikk: På grunn av sin utmerkede termiske ledningsevne og høy temperaturmotstand, RTPCVD SiC-ringerkan brukes som støtte- og varmeavledningsmaterialer for lasere, fiberoptisk kommunikasjonsutstyr og optiske komponenter.

3. Presisjonsmaskineri: RTP CVD SiC-ringer kan brukes til presisjonsinstrumenter og -utstyr i høytemperatur- og korrosive miljøer, slik som høytemperaturovner, vakuumenheter og kjemiske reaktorer.

4. Kjemisk industri: På grunn av sin korrosjonsbestandighet og kjemiske stabilitet, kan RTP CVD SiC-ringer brukes i beholdere, rør og reaktorer i kjemiske reaksjoner og katalytiske prosesser.

Epi System

RTP-system

CVD-system

Produktytelse:

1. Møt prosessen under 28nm

2. Super korrosjonsbestandighet

3. Super ren ytelse

4. Super hardhet

5. Høy tetthet

6. Høy temperatur motstand

7. Slitasjemotstand

Produktapplikasjon:

Silisiumkarbidmaterialer har egenskapene til høy hardhet, slitestyrke, korrosjonsbestandighet og høy temperaturstabilitet. Produkter med utmerket omfattende ytelse er mye brukt i tørretsing og TF/diffusjonsprosesser.